Abstract:
Развита теория диффузии атомов в неупорядоченных средах. Показано, что перколяционный подход позволяет получить выражения для энергии активации и предэкспоненциального множителя D0, которые существенно отличаются от традиционно используемых. Параметры диффузии связаны с параметрами случайного поля, действующего на диффузант. В зависимости от того, где находится система относительно порога протекания, значение D0 может как возрастать, так и значительно уменьшаться. Энергия активации с ростом степени неупорядоченности среды всегда уменьшается.
Имеющиеся экспериментальные данные интерпретируются с позиций перколяционного механизма миграции.
Description:
1. Бонч-Бруевич В. Л. Вопросы электронной теории неупорядоченных полупроводников. — УФН, 1983, 140, с. 583—637. 2. Соловьев В. Н. Диффузия в аморфных металлических слоях. — ФММ, 1982, 54, вып. 4, с. 876—879.
3. Pine D. J., Cotts R. М. Diffusion and electrotransport of hydrogen and deuterium in vanadium-titanium and vanadium-chromium alloys. — Phys. Rev. B, 1983, 28, p. 641-647. 4. Воwman R. C. Jr., Attalla A., Mae1and A. J, Johnson W. L. Hydrogen mobility in crystalline and amorphous Zr2PdHx. — Solid State Comm., 1983, 47, p. 779—782. 5. Шкловский Б. И., Эфрос А. Л. Электронные свойства легированных полупроводников. М.: Наука, 1979, 416 с. 6. Болтакс Б. И. Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках. Л., 1972, 384 с. 7. Vаlentа Р., Мaiег К., Кгоnmullег И., Fгеitag К. Self-diffusion of iron in the amorphous alloys Fe40Ni40P14B6 and Fe80B20 — Phys. slat. sol. (b), 1981, 106, p. 129—133. 8. Lin R.-W., Johnson H. H Hydrogen permiation in the metallic glass Fe40Ni40P14B6. — J. Non-Crys't. Sol., 1982, 51, p. 45—56. 9. Бокштейн Б. С., Клингер Л. М., Разумовский И. М., Уваpова Е. Н. О диффузии в аморфных сплавах. — ФММ, 1981, 51, вып. 3, с. 561—568. 10. Akhtar D., Cantor В., Cahn R. W. Measurements of diffusion rates of Au in metal—metal and metal—metalloid glasses. — Acta Met., 1982, 30, p. 1571—1577. 11. Berry B. S., Pritchet W. C. Gorsky relaxation and hydrogen diffusion in metallic glass Pd80Si20. — Phys. Rev. B, 1981, 24, p. 2299—2302. 12. Gupta D., Tu K. N., Asai K. W. Traser diffusion in amorphous Pd80Si20 and Gd16Co84. — Thin Solid Films, 1982, 90, p. 131—137. 13. Seeger A., Chik К. P. Diffusion mechanisms and point defects in silicon and germanium. — Phys. stat. sol., 1968, 29, p. 455—542. 14. Осипов К. А. Уравнения коэффициентов самодиффузии по границам зерен и в аморфных металлах.— ДАН СССР, 1981, 257, с. 693—697. 15. Тullег Н. L., Button D. Р., Ulhmann D. R. Fast ion transport in oxide glasses. — J. Non-Cryst. Sol., 1980, 40, p. 93—118.
