Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://elibrary.kdpu.edu.ua/handle/0564/1242
Назва: MICROSCOPIC MECHANISMS OF NUCLEATLON AND DIFFUSION IN QUENCHED Al-Si ALLOYS
Автори: Kiv, A. E.
Maximova, T. I.
Soloviev, Vladimir N.
Ключові слова: nucleation
diffusion
computer simulation
vacancy defects
Дата публікації: сер-2002
Бібліографічний опис: Kiv A. E. MICROSCOPIC MECHANISMS OF NUCLEATLON AND DIFFUSION IN QUENCHED Al-Si ALLOYS / Dr. A E. Kiv, Dr. T. I. Maximova, Dr. V. N. Soloviev // RQ11 - Rapidly Quenched & Metastable Materials. - Oxford University, U.K., 25-30th August 2002.
Короткий огляд (реферат): Si precipitates formation in Al-Si alloys is a subject of many investigations. Al alloys are widely used as structural materials in nuclear reactors and have many other important applications.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://elibrary.kdpu.edu.ua/handle/0564/1242
Розташовується у зібраннях:Кафедра інформатики та прикладної математики

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Kiv_Maximova_Soloviev.pdfAbstract8,05 MBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.