Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://elibrary.kdpu.edu.ua/xmlui/handle/0564/1022
Назва: Моделирование стабилизации поверхности (001) Si низкоэнергетическими ионами
Автори: Ків, Арнольд Юхимович
Соловйов, Володимир Миколайович
Максимова, Татьяна Ивановна
Ключові слова: компьютерное моделирование
стабилизация поверхности
кремний
низкоэнергетические ионы
метод молекулярной динамики
потенциал Стиллинджера-Вебера
потенциал Китинга
алгоритм Верле
Дата публікації: 1999
Видавництво: Видавничий відділ КДПУ
Бібліографічний опис: Кив А. Е. Моделирование стабилизации поверхности (001) Si низкоэнергетическими ионами / А. Е. Кив, В. Н. Соловьев, Т. И. Максимова // Комп’ютерне моделювання та інформаційні технології в освітній діяльності. – Кривий Ріг, 1999. – С. 7-11.
Короткий огляд (реферат): Анализ особенностей формирования и влияния радиационных допороговых и послепороговых дефектов на основные физические процессы в полупроводниках привел нас к следующему предположению. Облучение поверхности кремния нейтральными ионами с энергиями, меньшими энергии дефектообразования Ed может способствовать переходу ее структуры в энергетически более стабильное состояние. Этот метод стабилизации поверхности может быть более предпочтительным, чем использование распространенной в настоящее время ионной бомбардировки с энергиями ионов порядка нескольких килоэлектронвольт, которая может приводить к значительным перестройкам приповерхностных слоев.
Опис: 1. Бехштедт Ф., Эндерлайн Р. Поверхности и границы раздела полупроводников: Пер. с англ. – М.: Мир, 1990. – 488с. 2. Вавилов В.С., Кив А.Е., Ниязова О.Р. Механизмы образования и миграции дефектов в полупроводниках. – М.: Наука., Главная редакция физ.-мат. литературы, 1981. – 368с. 3. Хеерман Д.В. Методы компьютерного эксперимента в теоретической физике: Пер. с англ. / Под. ред. С.А.Ахманова. - М: Наука. Гл. ред. физ.- мат. лит., 1990. - 176 с. 4. F. Stillinger, T. Weber, New interatomic potential for Si, Phys. Rev. B 31, 5262 (1985). 5. I. Ohdomari, H. Akatsu, The structural models of the Si/Si02 interface, Non-Cryst. Sol. 89 239-248 (1987). 6. Максимова Т.И. Компьютерное моделирование радиационно-стимулированной стабилизации (001) Si поверхности.// Фотоэлектроника, № 8, 1998. 7. Ishimaru M., Munetoh S. Generation of amorphous silicon structure by rapid quenching: A molecular-dynamics study.// Phys.Rev., B 56 (23), 15133-15138 (1997). 8. K.Inoue, Y. Moricawa, Order-disorder phase transition on the Si (001) surface: Critical role of dimer defects, Phys.Rev., B 49 (20), 14774-14777 (1994).
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://elibrary.kdpu.edu.ua/handle/0564/1022
https://doi.org/10.31812/0564/1022
Розташовується у зібраннях:Кафедра інформатики та прикладної математики

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Кив_Соловьев_Максимова.pdfСтатья404.19 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.